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    • 专利摘要:

    公开号:WO1989009990A1
    申请号:PCT/JP1989/000393
    申请日:1989-04-12
    公开日:1989-10-19
    发明作者:Yoichi Fukushima；Minoru Fujita；Yuji Kakinuma
    申请人:Kyodo Printing Co., Ltd.；
    IPC主号:G11B7-00
    专利说明:
    [0001] 明 細
    [0002] R O M 型光記録 力一 ド用 のマ ス ク の作製方法 及びマ ス ク の検査方法 技術分野
    [0003] こ の発明 は光記録媒体 、 特 に R O M型光記録 カ ー ド を製造 す る場合 に 使用 す るマ ス ク の製造方法 に 関 す る も ので あ る 。
    [0004] 近年 、 I D カ ー ドやキ ャ ッ シ ュ カ ー ドやバ ン ク カ ー ド と し て 各種の情報 を記録 し た カ ー ド が 普及 し て 来て い るが 、 こ の 発明のマ ス ク はそ の様な R O M型光記録 カ ー ド に 使用 す る も のである 。 背景技術
    [0005] こ の種の カ ー ド に は個人デ ー タ や発行会社 のデ ー タ 等 の各 種の情報を 記録 す る必要が あ り 、 初期 の段 階 に お い て は 、 そ の よ う な情報を可視的な文字や記号 で記録 し て お り 、 ま た 、 後期 の段階 に お い て は磁気を使用 し た 電気信号で記録 し て い る が 、 偽造 · 改ざん の 防止や情報量の増加 に 対応す る必要が あ る 。
    [0006] そ の た め に 、 最近 、 レ ー ザ技術を応用 し た 光記録 カ ー ド が 開発 さ れ て 来 て い る 。 こ の光記録 カ ー ド は光学反射面 を持つ 情報記録媒体 （ 光記録媒体 ） を備 え る もので 、 光学反 射面 に は デ ー タ ピ ッ 卜 を形成 し 、 そ のデ ー タ ピ ッ 卜 の 光学反射率の 差 に よ っ て レ ー ザ に よ り デー タ ピ ッ 卜 を検出 し 、 情報を読み 取る よ う に構成 し たも のである 。
    [0007] と こ ろで 、 光記録媒体で はデー タ を表現するデ ー タ ピ ッ 卜 パ タ ー ン と 、 そのデー タ の書込み、 読み取 り 時に 卜 ラ ッ キ ン グを行 う ため の 卜 ラ ッ ク案内溝や 、 各 卜 ラ ッ ク の各々 の セ ク タ ー の位置、 使用状況等を示すア ド レス部分を示すプ リ フ ォ 一マ ツ テ ィ ン グパ タ ー ンが必要で あ り 、 こ れ ら のプ リ フ ォ ー マ ツ テ ィ ングパ タ ー ン及びデー タ ピ ッ ト パタ ー ン は 、 光記録 媒体に予め書込み及び消去不可能な形で形成さ れて いる 。
    [0008] 光記録媒体のデー タ の読み出 し手段の一つ と し て 、 反射光 の強度を比較する こ と に よ っ て行う 方法があ る 。 そ し て 、 そ れに適 し た光記録媒体を製造する技術の一つ と し て 、 写真蝕 刻技術を応用 し プ リ フ ォ ーマ ッ テ ィ ングパ タ ー ン及びデ ー タ ピ ッ 卜 パ タ ー ンをマ ス ク に加工 し て おき 、 プ リ フ ォ ーマ ツ テ イ ン グパ タ ー ン及びデー タ ピ ッ 卜 パ タ ー ンを反射性金属層等 のパ タ ー ン に して反射率の髙低を形成する方法が あ り 、 プ リ フ ォ ー マ ッ テ ィ ングゾヽ °タ ー ン とデー タ ピ ッ ト ゾ タ ー ン を持 つ たマ ス ダマ ス ク か ら コ ン タ ク 卜プ リ ン 卜等に よ り 実際の光記 録媒体を工場で生産する場合に使用 す る ワ ー キ ングマス ク を 作製する が 、 それ ら のマ ス ク を製作する場合に採用 さ れて い る従来の フ ォ 卜 マス ク 作製工程を第 6 図 に示す 。
    [0009] すなわち 、 光記録媒体の仕様を記載 し た仕様書 1 1 Ί に基 づい て ァ ー 卜 ワ ー ク 1 1 2 に よ り 原版を作製 し 、 そ の原版を 縮小カ メ ラ 1 1 3 に よ り 縮小 し て ェマ ルジ ヨ ン タ イ プ若 し く はハ ー ド タ イ プの レ チ ク ル （ 中間マ ス ク ） 1 1 4 を作製 する こ の レ チ ク ル （ 中 間 マ ス ク ） 1 1 4 を フ ォ 卜 リ ピ ー タ 1 5 に よ り レ チ ク ル （ 中 間マ ス ク ） Ί 1 4 に 描かれた 1 0 倍か ら 5倍原図 を 1 Z Ί 0或い は Ί / 5 に 縮小 し なが ら 殖版 し て マ ス タ マ ス ク 1 2 〇 を 作 製 す る 。 こ の マ ス タ マ ス ク 1 2 0をプ リ ン 卜 し て ワ ー キ ングマ ス ク 1 6を得る 。
    [0010] 或い は 、 仕様書 1 1 1 に 基づい て C A D入力 1 1 7を行 つ て 磁気 テ ー プ 1 1 8を作製 し 、 こ れを入力 媒体 と し て パ タ ー ン ジ ェ ネ レ ー タ 1 2 1 に よ り 高解像力乾板 （ H R P ) 上 に 自 動 的 にプ リ フ ォ ー マ ッ テ ィ ン グパ タ ー ン を 高速か つ 高精度 に 露光す る こ と に よ り 、 レ チ ク ル 1 1 4を作製 し 、 以下前述の 工程を経て ワ ー キ ン グマ ス ク 1 1 6を得る 。
    [0011] ま た 磁気テ ー プ Ί 1 8を入力媒体 と し て 電子 ビ ー ム露光裝 置 1 2 2 に よ り マ ス タ マ ス ク 1 5 を作製 し 、 以下前述の ェ 程を経て ワ ー キ ングマス ク Ί 6を得る 。 発明 の開示
    [0012] R O M型光記録媒体は蓄え る べ き情報 の内容が異な ればそ れそ れ に対応 す る必要が あ る 。 従 っ て 、 R O M型光記録媒体 を製造す る場合 に は カ ー ド仕様 に 基づい た R O M情報デ ー タ ご と に 個々 の デ ー タ ピ ッ 卜 ゾ、 ° タ ー ン を も つ も の を 製造 す る必 要が あ り 、 従来 は カ ー ド仕様 に 基づい た R O M情報デー タ ご と に 高価な マ ス タ マ ス ク を作製 し て い た た め 、 R O M型光記 録媒体のマ ス タ マ ス ク は高価 な も の に な っ て い る 。 ま た 、 従 来、 こ の R O M型光記録媒体のマス ク を製造する場合は 、 露 光手段 と し て電子 ビ ー ム ま た はパタ ー ン ジ ェ ネ レ ー タ 等を使 用 し て いる が、 情報量が多 く 、 デー タ処理時間や露光時間 が 長く な り 、 ま たマス タ マス ク の検査工程に も多大の 時間 を必 要 と しマス タ マス クの価格を高価にする一因 とな っ ている 。 更に ァ ー 卜 ワ ー ク に よる方法は作業が極め て煩雜で あ る 。
    [0013] こ の発明 は上記の如き事情に鑑みて な されたものであ っ て 書込み可能型光記録カ ー ド用 の読取 り 書込み装置に よ っ て デ ー タ を処理する こ とができ 、 かつ 安価で あ る R 0 M 型光記録 媒体を製造する場合に適 し たマス ク を製造する方法を提供す る こ と を 目 的 と するちのである 。
    [0014] この た め に 、 第 1 の発明の R O M型光記録カ ー ド用 の ヮ ー キングマ ス ク の作製方法 は 、 書込み可能型光記録 カ ー ド と周 じ プ リ フ ォ ー マ ッ テ ィ ングパタ ー ン とデ ー タ ピ ッ ト パタ ー ン を持 っ た R O M 型光記録 カ ー ド用 の ワ ー キ ングマ ス ク の作製 方法であ っ て 、 前記プ リ フ ォ ー マ 、グ テ ィ ングパ タ ー ン を持つ マザ一マ ス ク 作製工程と 、 前記プ リ フ ォ ーマ ッ テ ィ ングパタ ー ン を転写 するマス タ マス ク基材作製工程 と 、 前記マス タ マ ス ク基材に前記プ リ フ ォ ーマ ッ ティ ングパタ ー ン か ら制御信 号を得て レ ー ザ照射に よ り 前記デー タ ピ ッ 卜 パタ ー ン を前記 マ ス タ マ ス ク 基材に穿孔するマス タマ ス ク 作製工程 と 、 前記 マ ス タ マ スク をプ リ ン 卜 し ワ ー キングマス ク を作製する ヮ ー キ ングマ ス ク 作製工程 と を含むこ とを特徴 と し て いる 。
    [0015] ま た 、 第 2 の発明 の R O M型光記録カ ー ド用 のマザ一マ ス ク の作製方法 は 、 書込み可能型光記録 カ ー ド と 周 じ プ リ フ ォ 一マ ツ テ ィ ングパタ ー ンを持 っ た R O M型光記録 カ ー ド用 の マザ一マ ス ク の作製方法であ っ て 、 ハ ー ドマ ス ク ブ ラ ン ク ス に レ ジス 卜 を コ ー テ ィ ン グす る レ ジス 卜 コ ー テ ィ ン グ工程 と 次 に レ ジ ス 卜 に 前記書込み可能型光記録 カ ー ド と 周 じ 前記プ リ フ ォ ーマ ッ テ ィ ン グパ タ ー ン の形状 に 従 っ て 前記 レ ジ ス 卜 を露光 す る露光工程 と 、 次 に 前記 レ ジ ス 卜 を現像す る現像 ェ 程 と 、 次 に前記ハ ー ドマ ス ク ブラ ン ク ス を エ ッ チ ン グす る ェ ツ チ ン グ工程 と 、 次 に 前記ハ ー ドマ ス ク ブ ラ ン ク ス か ら 前記 レ ジ ス 卜 を 除去す る リ ム ー ブ工程 と を含む こ と を特徴 と し て い る 。
    [0016] ま た 、 第 3 の発明の R O M型光記録 カ ー ド用 のマ ス タ マ ス ク の作製方法 は 、 書込み可能型光記録 カ ー ド と 同 じ プ リ フ ォ 一マ ツ テ ィ ン グノ° タ ー ン と デ ー タ ピ ッ 卜 ノ タ ー ン を 持 っ た R O M 型光記録 カ ー ド用 のマ ス タ マ ス ク の作製方法 で あ っ て 基材上 に 金属層が形成 し て あ るマ ス タ マ ス ク 基材上 に レ ジ ス 卜 を コ ー テ ィ ングする レ ジ ス 卜 コ ー テ ィ ン グ工程 と 、 次 に 書 込み可 能型光記録 カ ー ド と 同 じ プ リ フ ォ ー マ ッ テ ィ ン グパ タ ー ン を持 っ た R O M型光記録カ ー ド用 の マザ一マ ス ク を前記 レ ジ ス 卜 上 に 重ね て 露光す る露光工程 と 前記 レ ジ ス 卜 を現像 す る現像工程 と 、 次 に 前記マ ス タ マ ス ク 基材上の前記金属層 を エ ッ チ ン グす る エ ッ チ ン グ工程 と 、 次 に 前記マ ス タ マ ス ク 基材か ら レ ジ ス 卜 を リ ム ー ブす る リ ム ー ブ 工程 と 、 次 に 前記 マ ス タ マ ス ク 基材 の前記金属層上 に 光記録層 を形成す る光記 録層形成工程 と 、 次 に前記書込み可能型光記録カ ー ド と同 じ プ リ フ ォ ーマ ッ テ ィ ングパタ ー ン に従 っ て レ ーザ照射 に よ り 前記光記録層 をデー タ ピ ッ 卜 パ タ ー ン に対応 し て穿孔するデ 一タ ピ ヅ 卜 パタ ー ン書込み工程 と 、 次に前記マ ス タ マ スク 基 材を前記デー タ ピ ッ 卜 パ タ ー ンに対応 し て穿孔された前記光 記録層をマ ス ク と し て前記金属層をエ ッ チングする エ ツ チン グ工程 と 、 次 に前記マス タ マス ク 基材か ら前記光記録層を除 去する 除去工程 と を含むこ とを特徴 と し て いる 。
    [0017] ま た 、 第 4 の発明の R O M型光記録カ ー ド用 のマ ス タ マ ス ク の作製方法は 、 書込み可能型光記録カ ー ド と周 じプ リ フ ォ 一マ ツ テ ィ ン グパ タ ー ン と デ ー タ ピ ッ ト ゾ タ ー ン を持 っ た R O M型光記録 カ ー ド用 のマ ス タ マ ス ク の作製方法で あ っ て 基材上に低融点金属層が形成 し て あるマ ス タ マ ス ク 基材上に レジ ス 卜 を コ ー テ ィ ングする レ ジ ス 卜 コ ー テ ィ ング工程 と 、 次 に書込み可能型光記録カ ー ド と同 じプ リ フ ォ ーマ ツ テ ィ ン グパタ ー ンを持 っ た R ひ M型光記録カ ー ド用 のマザ一マ ス ク を前記 レジ ス 卜 上に重ねて露光す る露光工程 と前記 レ ジス 卜 を現像する現像工程 と 、 次 に前記マ ス タ マス ク基材上の前記 低融点金属層をエ ッ チングするエ ッ チング工程と 、 次に前記 マス タ マス ク 基材か ら レ ジス 卜 を リ ム ーブする リ ム ー プ工程 と 、 次 に前記書込み可能型光記録 カ ー ド と周 じプ リ フ ォ ーマ ヅ テ ィ ングパ タ ー ン に従 っ て レ ー ザ照射に よ り 前記低融点 ¾金 属層をデ ー タ ピ ッ 卜 パタ ー ン に対応 し て穿孔するデ ー タ ピ ッ 卜 パ タ ー ン書込み工程 とを含むこ と を特徵 と し て い る 。 ま た 、 第 5 の発明 のマ ス ク の検査方法 は 、 書込 み可 能型光 記録カ ー ド と 周 じ プ リ フ ォ ー マ ッ テ ィ ン グパ タ ー ン と デ ー タ ピ ッ 卜 パ タ ー ン を持 っ た マ ス ク の検査方法で あ っ て 、 前記プ リ フ ォ ー マ ツ テ ィ ン グパ タ ー ン か ら 得 ら れる制御信号 に よ り 書込み可 能型光記録 カ ー ド の書込み読取 り 装置を制御 し て 、 m δίΐマ ス ク の前記デ ー タ ピ ッ 卜 ノ タ ー ン を読み取 り 、 デ コ ー ド を行 つ た R 0 M情報デー タ と カ ー ド仕様 に 基づい た R 0 M 情報デ ー タ を コ ン ピ ュ ー タ に よ り 比較す る こ と を特徴 と し て い る 。
    [0018] ま た 、 第 6 の発明の R O M型光記録 力一 ドの検査方法 は 、 書込み可能型光記録 カ ー ド と 周 じ プ リ フ ォ ーマ ッ テ ィ ン グパ タ ー ン と デ ー タ ピ ッ 卜 パ タ ー ン を持 っ た R 0 M型光記録 カ ー ド の検査方法で あ っ て 、 前記プ リ フ ォ ー マ ッ テ ィ ン グパ タ ー ン か ら 得 ら れる制御信号 に よ り 書込 み可 能型光記録 カ ー ド の 込 み B7C取 り 装置を制御 し て 、 前記 R O M 型光記録 カ ー ド の m eel 丁 一タ ピ ッ 卜 ノ° タ ー ン を 読 み 取 り 、 デ コ ー ド を 行 っ た R 0 M 情報デ ー タ と カ ー ド仕様 に 基づい た R O M 情報デ ー タ を コ ン ビ ユ ー タ に よ り 比較す る こ と を特徴 と し て い る 。 図面の簡単な説明
    [0019] 第 1 図 は R O M 型光記録 カ ー ド 用 マ ス タ マ ス ク を 用 い た R O M 型光記録 カ ー ド の作製過程 を示す 工程説明 図 、 第 2 図 はマ ザ一マ ス ク の作製過程 を示 す 工程説明図 、 第 3 図 は マ ス タ マ ス ク 基材の作製過程 を示す 工 程説 明 図 、 第 4 図 は マ ス タ マスク の作製過程を示す工程説明図、 第 5 図 はマスタマスク の他の作製過程を示す工程説明図、 第 6 図は R O M型光記録 カ ー ド用 ワ ーキングマスクの作製過程を示す工程説明図 、 第 7 図は R O M型光記録カ ー ドの斜視説明図、 第 8 図は第 7 図 における A— A部断面図、 第 9 図はワーキングマス クを用 い た R O M型光記録カ ー ドの作製過程を示す工程説明図である 発明を実施するための最良の形態
    [0020] R O M型光記録カ ー ドを量産する場合に使用されるマス ク は、 マスタマスク から コ ンタ ク トプ リ ン 卜等に よ り複製 した ワ ーキングマスクが使用される 。
    [0021] そこで、 第 1 に R O M型光記録カ ー ド用マスタ マス ク を用 いた R 0 M型光記録カ ー ドの作製過程を示す工程説明図 （ 第 図 ） について説明する 。
    [0022] ①書込み可能型光記録カ ー ドのプ リ フ ォ ーマ ッ テ ィ ングバタ ー ンを持っ たハー ドマス クを作製する。 前記プ リ フ ォ ーマ 、グ テ ィ ングパタ ー ンは案内ガイ ドゃ 卜 ラ ッ クナンバー等の制御 ピッ 卜パタ ー ンか らな っ ている （第 Ί 図 （ a ) マザ一マスク 作製工程 ） 。
    [0023] ②次に 、 前記マザ一マスク に形成された前記プ リ フ ォ ーマ ツ テ ィ ングパタ ー ンをマスクブラ ン ク ス （ ガラス等の基板の上 に高反射性層が形成 してある 。 ） にエッ チング等に よ り 転写 し 、 マスタマス ク を基材を作製する （ 第 1 図 （ b ) マスタ マ ス ク基材怍製工程 ） 。 ③次 に 、 前記プ リ フ ォ ー マ ッ テ ィ ン グパ タ ー ン が転写 さ れた 前記マ ス タ マ ス ク 基材 に 前記プ リ フ ォ ー マ ッ テ ィ ン グパ タ ー ン か ら 得 ら れる制御信号 に よ り 卜 ラ ッ キ ン グ 、 フ ォ ー カ シ ン グを行い な が ら 書込み可能型光記録カ ー ド用 の書込み読取 り 装置を制御 し 、 書込み可能型光記録 カ ー ド の ソ フ ト ウ ェ ア を 利用 し 、 R O M情報デ ー タ をエ ン コ ー ド し て 、 レ ー ザ照射 に よ り デー タ ピ ッ ト パ タ ー ンを描画 す る （ 第 1 図 （ c ) R O M 情報描画工程 ） 。
    [0024] ④次 に 、 前記マ ス タ マ ス ク 基材を現像 · エ ッ チ ン グ等 に よ り 前記デー タ ピ ッ 卜 ゾ タ ー ン をパタ ー ン化 し て マ ス タ マ ス ク を 作製す る （ 第 Ί 図 （ d ) マ ス タ マ ス ク 作製工程 ） 。
    [0025] ⑤次 に 、 前記マ ス タ マ ス ク か ら 前記プ リ フ ォ ー マ ッ テ ィ ン グ ノヽ "タ ー ン と 前記デー タ ピ ッ 卜 パ タ ー ンを転写 し て ワ ー キ ン グ マ ス ク を作製 す る （ 第 1 図 （ e ) ワ ー キ ン グマ ス ク 作製 工程 ）
    [0026] ⑥次 に 、 前記 ワ ー キ ン グマ ス ク を用 い て R O M型光記録 カ ー ド を作製す る （ 第 1 図 （ f ) R O M型光記録 カ ー ド作製 工程 ） ま た 、 そ れぞれの 工程 に は 、 必要に 応 じ て 前記プ リ フ ォ ー マ ツ テ ィ ン グパ タ ー ン と 前記デ ー タ ピ ッ 卜 パ タ ー ン の検査 ェ 程 （ 第 1 図 （ Q ) 〜第 Ί 図 （ ） ) が付加 さ れ 、 各工 程で の 品質管理を行 う 。
    [0027] 前記検査工程 （ 第 1 図 （ g 〉 〜第 1 図 （ 〉 ) は 、 前記プ リ フ ォ ー マ ッ テ ィ ン グパ タ ー ン の制御信号 に よ り 卜 ラ ッ キ ン グ、 フ ォ ー カ シング等を行いなが ら 書込み可能型光記録カ ー ドの書込み読取 り 装置を制御 し て 、 前記デ ー タ ピ ッ ト パタ ー ン を読み取 り 、 デ コ ー ド を行 っ た デ ー タ と エ ン コ ー ド 前 の
    [0028] R O M情報デー タ をコ ン ピ ュ ー タ を利用 し て比較 し検査する 第 2 に マザ一マス ク の作製過程を工程説明図 （ 第 2図 ） に つ いて説明 する 。
    [0029] ① まずハ ー ドマ ス ク ブラ ン ク ス 9 を用意する 。 ハ ー ドマ ス ク ブラ ン ク ス 9 と し て はガラ ス等の基板 1 1 上に低反射ク ロ ム 等の遮光層 1 2を形成 し た低反射ク ロ ムマ ス ク ブラ ン ク ス例 えば アルパ ッ ク 成膜株式会社製の U L C O A T P F L— 5 0 0 9 ( S ) Lを用 いる （ 第 2図 （ a ) ) 。
    [0030] こ の他のハ ー ドマス ク 材 （ 基材 1 1 ) と し て 、 ガラ ス材質 と し て はソ ー ダラ イ ムプル一 （ 青板ガラス ） 、 ソ ー ダラ イ ム ホワ イ ト （ 白 板ガ ラ ス ） 、 低膨脹ガ ラ ス 、 合成石英等が使用 可能であ り 、
    [0031] ガ ラ ス以外の材質 と し て はポ リ カ ー ポネ ー 卜 、 ポ リ メ チルメ タ ク リ レ ー 卜 、 ポ リ エチ レ ンテ レ フ タ レ ー 卜 、 エポキ シ等の 表面平滑性の優れた樹脂板を用 いる こ と もでき 、 ハ ー ドマ ス ク材の厚さ と し て は 0 . 0 9 " ま た は 0 . 0 5 " 等が使い易 い
    [0032] ま た 、 遮光層の材質 と し て は 、 基板 1 1 と の密着性 、 遮光 性 及 び エ ッ チ ン グ 適 性 か ら 選 択 さ れ 、 C 「 の 単 扈 体 、 C 「 / G r x O y、 G r x 〇 y Z G r Z G r x O yの多層体 A 、 N i 、 C o 、 A g 、 A u , C u 、 T i 等の金属層 、 力 ル コ ゲ ナ イ ド系金属層及び前記金属層 と カ ル コ ゲ ナ イ ド 系金 属層 の合金層等が 、 遮光性及び高反射性 の点か ら 使用 可 能で あ り 、 特 に c 「 の単層体 、 C r z c r x o y c p X 0 y /
    [0033] C r Z C r x O yの'多層体が 、 密着性 、 遮光性及びエ ツ チ ン グ適性 に 優れて い る 。
    [0034] ②次 に 、 レ ジ ス 卜 1 3 を コ ー テ ィ ン グする 。 レ ジ ス 卜 1 3 と し て は 、 へ キ ス 卜 社製のポジ型 フ ォ 卜 レ ジ ス 卜 A Z 1 3 5 0 S Fを 3 0 0 0 rpm で 6 0 sec ス ピ ン コ ー テ ィ ン グ し 、 8 5 Όで 2 0 min でプ リ べ ー ク す る と 約 0 . 5 mの レ ジ ス 卜 1 3 を得る こ と できる （ 第 2 図 （ b 〉 ) 。
    [0035] こ の他 に も 、 電子線露光用 レ ジ ス 卜 、 例 え ば東京応化工 業 株式会社 の 0 E B R シ リ ー ズポ ジ 型 レ ジ ス 卜 が 使 用 で き 、 O E B R — 1 0 3 0を 3 0 0 0 rpm で 6 0 sec ス ピ ン コ ー テ イ ング し 、 で 3 0 min プ リ べ ー ク す る と 約 0 .
    [0036] mの レ ジ ス 卜 層 を形成す る こ と がで き る 。
    [0037] ③次 に ビ ー ム 1 4 ( 紫外線 〉 を照射 し 、 プ リ フ ォ ー マ ッ テ ィ ン グパ タ ー ン 1 5 を露光 す る 。 露光装置 と し て は 、 N S K社 製の L Z — 3 4 0を用 い 、 1 8 0 m J ノ の条件で Ί shotづ つ露光す る 。 プ リ フ ォ ー マ ッ テ ィ ン グパ タ ー ン 1 5 のデ ー タ 入力 は 、 C A Dに よ る人的手段 ま た は磁気テ ー プ等 に よ り 行 わ れる （ 第 2 図 （ c ) ) 。
    [0038] こ の他の電子線露光装虐 と し て は 、 パ ー キ ン "エルマ 一 社 製 の電子 ビ ー ム露光装置 メ ー ビ ス ΠΙ等 を使用 す る こ と が で き 、 こ の際 に は 、 レ ジ ス 卜 と し て 電子線露光用 レ ジ ス 卜 を 用 い る の はい う ま で ち ない 。
    [0039] ④次に 、 レジス 卜 1 3を現像する 。 へキス 卜社製の ポジ型フ ォ 卜 レ ジ ス 卜 Α Ζ Ί 3 5 0 Z S Fは同 へ キス 卜 社製のデ ィ べ ロ ッ パー A Z— 3 1 2 M I Fを純水で 1 ： Ί の容量比 に 希 ^ し た溶液に 3 0 sec 浸漬後、 純水で充分な水洗いを行 う こ と に よ り 現像でき る （ 第 2図 （ d ) ) 。
    [0040] ⑤次に 、 遮光層 1 2を エ ッ チングす る 。 ェチ ッ ング液 と し て は
    [0041] 硝酸第 2セ リ ウ ムア ン モ ン 2 4 0 c c
    [0042] 過塩素酸 （ 7 0 % ) 6 0 c c
    [0043] 純水 1 0 0 0 c c
    [0044] を用 い 、 この 2 0 のエ ッ チング液に 5 0 sec 浸賡 し て遮光 層 1 2をエ ッ チ ング後、 純水で充分な水洗いを行う （ 第 2図 ( e ) ) 。
    [0045] ま た 、 既製品のエ ッ チ ング液 と して は長瀕産業铢式会社製 の ク ロ ム エ ッ チ ヤ ン 卜 K ( 商品名 ） を使用 する こ と ができる
    [0046] ⑥次 に 、 レジス 卜 1 3を剥離する 。 へキス 卜 社製のポジ型フ ォ 卜 レジ ス 卜 A Z 1 3 5 0 Z S Fを剥離する の に は 、 同 へ キ ス ト 社製の A Zシ ン ナ ー を用 いる こ と ができる 。 エ ッ チング し たハ ー ドマス クプラ ン ク ス 9を約 5 m i n 間 A Zシ ン ナ ー に 浸潰 し 、 レジ ス 卜 Ί 3を溶解 し た後、 別 に用意 し た A Zシ ン ナ 一で リ ン ス し 、 乾燥させる （ 第 2図 （ f ) ) 。
    [0047] ま た既製品の レ ジ ス 卜 剥離液 と し て東京応化工業株式会社 の レ ジ ス 卜 O E B R — Ί 0 3 0に は 、 同東京応化工業株式会 社製剥離液 5 0 2を 1 0 0 Cま で加熱 し 、 エ ッ チ ング し た ハ — ドマ ス ク プラ ン ク ス 9を約 1 O min 浸瀆 し て レ ジ ス 卜 1 3 を剥離 し 、 更 に リ ン ス す る 。 リ ン ス 液 と し て は ァ セ 卜 ン と メ タ ノ ールを 1 ： 1 の容量比で混合 し た 溶液を用 い る こ と がで き る 。
    [0048] ⑦ こ う し てプ リ フ ォ ー マ ッ テ ィ ン グパ タ ー ン Ί 5を有 す るマ ザ一マ ス ク 2が 完成す る （ 第 2図 （ g ) ) 。
    [0049] 第 3 に マ ス タ マ ス ク 基材 の作製過程を 工程説明図 （ 第 3図 ） に つ い て 説明 す る 。
    [0050] ① ま ず 、 基材 2 1 を用 意す る （ 第 3図 （ a ) ) 。 基材 2 1 と し て は 、 マザ一マ ス ク 作製過程で例示 し たハ ー ドマ ス ク 材を 利用 す る こ と がで き る 。
    [0051] ②次に 金属層 1 6を形成す る （ 第 3図 （ b ) ) 。 基材 2 1 を スパ ッ タ リ ン グ装置内 に 入れ 1 X 1 0 " T 0 r rま で 減圧 し 、 次 に A 「 ガ ス を導入 し 1 X 1 0 Torrに し た マ グネ 卜 ロ ン スパ ッ タ 装置 に よ り 1 0 A / sec の蒸着 レ ー 卜 で 、 基材 2 Ί 上 に 層厚が約 7 0 0 Aの C r層 を形成す る と 近赤外域で の反射率 は 、 約 5 0〜 6 096と な る 。 金属層 1 6 と し て はマザ一マ ス ク 作製過程で用 い た金属層 、 カ ル コ ゲ ナ イ ド系金属層及び こ れ ら の合金層 を利用 す る こ と がで き る 。 以下金属層 1 6に 層 厚約 7 0 0 Aの C r層 を用 い た 場合の実施例 に つ い て 説明 を け る 。
    [0052] ③次 に 、 レ ジ ス 卜 2 3を コ ー テ ィ ン グす る （ 第 3図 （ c ) ) 。 レ ジ ス 卜 2 3 と し て は 、 マ ザ一マ ス ク 作製過程で用 い た レ ジ ス 卜 を利用 す る こ とがでぎる 。
    [0053] ④次 に 、 マザ一マ ス ク 2のパタ ー ン面 と基材 2 Ί の塗布面 と が密着する よ う に 重ね 、 高圧水銀灯の光で露光する 。 露光条 件は 、 4 m J で行う （ 第 3図 （ d ) ) 。
    [0054] ⑤次に 、 レ ジ ス 卜 2 3を現像する （ 第 3図 （ e ) ) 。 現像液 と し て は 、 マザ一マ ス ク 作製過程で用 いた現像液を利用 する こ と がでぎる 。
    [0055] ⑥次 に 、 金属層 1 6をエ ッ チングする （ 第 3図 （ f ) ) 。 ェ ツ チングに よ り マザ一マ ス ク 2か ら マ ス タ マ ス ク基材 2 0へ プ リ フ ォ ーマ ッ チ イ ングパタ ー ン 1 5の転写 が行われる 。 ェ ツ チング液 と し て は、 マザ一マ ス ク 作製過程で用 いた エ ッ チ ング液を利用 する こ とができる 。
    [0056] ⑦次に 、 レ ジス 卜 2 3を剥離 し てマ ス タ マ ス ク基材 2 0が完 成する （ 第 3図 （ g ) ) 。 剥離液 と し て は 、 マザ一マ ス ク作 製過程で用 いた剥離液を利用する こ と ができる 。
    [0057] 第 4に マ ス タマ ス ク の作製過程を工程説明図 （ 第 4図 ） に つ い て説明 す る 。
    [0058] ①ま ず、 マス タ マ ス ク 基材 2 0を用意する （ 第 4図 （ a ) ) マス タ マス ク 基材 は、 プ リ フ ォ ーマ ッ テ ィ ングパ タ ー ン Ί 5 を転写 し た もので 、 第 3図 に示す工程を経て作製されたもの で あ る 。
    [0059] ②次に 、 マ ス タ マ ス ク 基材 2 0上に染料 と樹脂か ら なる光記 録層 3 1 を形成す る （ 第 4図 （ b ) ) 。 染料 と樹脂の 配合比 は 、 染料 1 に対 し て樹脂 1 以上 が酸に対する耐性が良好であ る 。 染料 は 、 R O M情報デー タ の書込み特性が優れ て い る も の を選択 し 、 （ 書込み レ ー ザ光を良 く 吸収 す る も の を用 い る ) バ イ ン タ ー と な る樹脂 に つ い て は 、 エ ッ チ ン グ に耐 え る材 料を選択 す る 。 例 え ば 、 書込み レ ー ザ に 、 波長 8 3 0 n mの 半導体 レ ー ザを用 いる場合に は
    [0060] 日 本化薬株式会社製
    [0061] 赤外線吸収染料 I R — 8 2 0 Ί 部
    [0062] 太平化学製品株式会社製
    [0063] 二 卜 ロ セル ロ ー ス H 1 Z 8 3部
    [0064] シ ク ロ へ キ サノ ン 7 5部
    [0065] 1 , 2 — ジ ク ロ ルェ タ ン 7 5部
    [0066] を混合分散 し た 染料液を金属層 1 6上 に 1 0 0 0 rpm で 6 0 sec ス ピ ン ナ 一 に て ス ピ ン コ ー テ ィ ングを行 う と約 2 6 0 0 Aの光記録層 3 1 を得た 。 波長 8 3 0 n mの近赤外線光 に 対 し て 金属層 "！ 6 ( C r層 〉 の絶体反射率が約 5 2 %で あ る と 光記録層 3 1 面 （ 染料層面 ） 側か ら 見た金属層 Ί 6 と ガ ラ ス 部 3 3 の 反射率 は 、 そ れぞ れ約 Ί 7 % と 5 % と な る 。 波 長 8 3 0 n mの半導体 レ ー ザを用 い た 場合 に は 、 十分 に コ ン 卜 ラ ス 卜 を と る こ と ができ る 。 こ の と き 、 場合 に よ っ て は光記 録層 3 と 金属層 1 6に よ り 光の干渉を生 じ る可 能性が あ る ので光記録層 3 1 の層厚を樹脂の種類 、 染料 の種類 、 樹脂 と 染料の割合及び金属層 1 6の材質 に 応 じ て 適当 に 選択 す る こ と が必要で あ る 。
    [0067] ③次 に 、 マ ス タ マ ス ク 基材 2 0 に 形成 し て あ るプ リ フ ォ ー マ ッ テ ィ ングパタ ー ン 1 5 に よ り ト ラ ッ キング、 フ ォ ー カ シン グ等の制御を行い、 書込み可能型光記録カ ー ドの書込み読取 り装置に よ り R O M情報デー タ をエンコ ー ド しデー タ ピッ 卜 パ タ ー ン 3 4 a と し て 書込みを 行 う （ 第 4 図 （ c ) ) 。
    [0068] R O M情報デー タ の書込みは、 マスタマスク基材 2 0を搬送 し なが ら行い、 5 のスポ ッ ト に 8 3 0 n mの半導体 レー ザ光を集光 した場合 8 mW , 20 sec のエネルギーをパル ス照射する こ と に よ り 、 スポッ ト状に光記録層 3 1 を除去す るこ とができデータ ピッ 卜パタ ー ン 3 4 aを形成するこ と が できる 。 こ こで書込み R O M情報デー タ は、 ワ ープロ原稿、 プロ グラム及び写真原稿など と して表現されたものであ り 、 これを例えば、 M S— D O Sフ ァ イ ルにお と し 、 各フ ァ イ ル を 2 5 6バイ 卜づっセグメ ン ト 化 し 、 書込み可能型光記録力 ー ドの フ ォ ーマ ツ 卜 に合う よ う に 、 デー タ の挿入及び配置を 行い、 かつ 、 ディ レク ト リ の作製を行う等のユーザーデー タ の編集をマイ ク ロ コ ン ピ ュ ー タ で行い、 プ リ フ ォ ーマ ッ テ ィ ングパタ ー ンに従っ て ト ラ ッ キング、 フ ォ ー カ シングを行い 書込み可能型光記録カ ー ドのフ ォ ーマ ツ 卜 に従 っ て R O M情 報デー タ の描画を行う 。
    [0069] ④次に 、 R O M情報のデー タ の書込みによ り 記録されたデー タ ピッ 卜ノ、'タ ーン 3 4 aをエ ッ チングするこ と に よ り デー タ ピッ 卜パタ ーン 3 4を形成する （ 第 4図 （ d ) ) 。 エ ツ チン グ液と して は、 マザ一マス ク作製過程で用いたエッ チング液 を利用 する こ とができる 。 ⑤次に 、 残 っ た光記録層 3 Ί を溶剤 に よ り リ ム ー ブ す る ( 第 4 図 （ e ) ) 。 溶剤 と し て は ア セ ト ン を用 い 、 1 0 sec 浸瀆 す る こ と に よ り 光記録屬 3 1 を リ ム ー ブす る こ と がで き 、 そ の後別 の ァ セ 卜 ンで リ ン ス を行 い乾燥さ せ る 。
    [0070] ⑥ こ う し て 、 マ ス タ マ ス ク 3 5 が 完成す る （ 第 4 図 （ f ) ) 。
    [0071] ⑦な お必要 に応 じ てマ ス タ マ ス ク 3 5 を検査す る （ 第 4 図
    [0072] ( g )
    [0073] 第 5 にマ ス タ マ ス ク 基材及びマ ス タ マス ク の他 の作製過程 を 工程説明図 （ 第 5 図 ） に つ （/、 て 説明 す る 。
    [0074] ① ま ず 、 マ ス タ マ ス ク 基材 2 0 a を作製す る （ 第 5 図 （ a 〉 ) 。 マ ス タ マ ス ク 基材 2 0 a は 前述の第 3 図 に 示 すマ ス タ マ ス ク 基材 2 0 a の作製工程 に お い て 金属層 1 6 と し て 低融点金 属層を用 い 、 かつ 、 低融点金属層 に みあ っ た エ ッ チ ン グ液を 使用 し て作製 し た も のである 。 低融点金属層 4 6 と し て は 、 カ ル コ ゲナ イ ド系金属層及び A J^ , N ί , C o , A g , A u , C u , T i 等の金属層 と カ ル コ ゲナ イ ド系金属層 の合金層 を 用 い る こ と がで き る 。 （ 基材 2 1 と の密着性及び レ ー ザ書込 み 時 の 感度の増大を 図 る た め に 、 基 材 2 1 、 低 融 点 金 属 層 4 6 の 間 に 中 間層 を設け て も よ い 。 ） こ こ で は低融点金属層 4 6 に 層厚が 5 0 0 A の T e 層 を用 い た 場合 に つ い て 以下説 明 す る 。 層厚 5 0 0 A の T e 層 は透過率 が Ί 0 %以下でマ ス 夕 と し て の遮光性 は充分 に あ り 、 反射率 は約 6 5 %で あ る 。 単層 の T e 層 は 、 基材上 2 1 に スパ ッ タ ン グ法等の通常の 薄 層形成手 段 に よ っ て 形成 す る こ と が で き る 。 低 融 点 金 属 層 4 6で形成されたマス タ マス ク 基材 20 aのエ ッ チング液 と し て例 えば、
    [0075] 硝酸 1 部
    [0076] 塩酸 1 部
    [0077] リ ン酸 8部
    [0078] 純水 9部
    [0079] を上記容量比で混合 し 、 2 0 °0に 保持 し た エ ッ チング液に約 3 0 sec 浸漬 し 、 プ リ フ ォ ーマ ッ テ ィ ングパタ ー ン 1 5を持 つ たマ ス タ マ ス ク基材 2 0 aを得る こ と ができる 。
    [0080] ②次に 、 マス タ マス ク基材 20 aに形成 し て あるプ リ フ ォ ー マ ツ テ ィ ングパ タ ー ン 1 5に よ り ト ラ ッ キング、 フ ォ ー カ シ ン グ等の制御 を行い なが ら 書込み可能型光記録カ ー ド の書込 み読取 り 装置に よ り R O M情報デー タ をエ ン コ ー ド し 、 デー タ ピ ッ 卜 パ タ ー ン 3 4の 書込み を 行 う （ 第 5 図 （ b ) ) 。 R O M情報デ ー タ の書込み は 、 5 iz mの ス ポ ッ ト に 8 3 0 n mの半導体 レ ーザ光を集光 し 1 2 m W， 2 0 x s e cのェ ネルギー をパルスを照射する こ と に よ り 直接デ ー タ ピ ッ 卜 パ タ一
    [0081] ン 3 4を形成する こ と ができる 。
    [0082] ③ こ う し て 、 マ ス タ マ ス ク 3 6が完成する （ 第 5図 （ c ) )
    [0083] ④な お必要に 応 じ てマ ス タ マ ス ク 3 6は書込み可能型光記録 カ ー ドの書込み読取 り 装置でパ タ ー ン を検査す る 。 （ 第 5図 ( d ) ) D
    [0084] ま た図示は し な いが 、 マ ス タ マ ス ク 3 5 , 3 6を用 いて マ ス タ マ ス ク 基材作製工程 と周様の 工程 に よ り ワ ー キ ン グマ ス ク 6 0を作製 し 、 必要 に 応 じ て ワ ー キ ン グマス ク 6 0を検査 す る 。
    [0085] 次 に こ の発明の ワ ー キ ングマ ス ク 6 0を使用 し て製造 し た 光記録媒体を も つ カ ー ド の製造方法 に つ い て 説明 す る 。
    [0086] 第 7 図及び第 8図 に おい て 、 4 Ί は R O M型光記録 カ ー ド で あ り 、 R O M型光記録カ ー ド 4 1 は 2枚の カ ー ド基材す な わ ち カ ー ド表基材 4 2及び カ ー ド裏基材 4 3 の間 に お い て 光 記録部 4 5 を設け て い る 。 カ ー ド表基材 4 2 はポ リ カ ー ボ ネ 一 卜 、 ポ リ メ チルメ タ ク リ レ ー 卜 、 エ ポキ シ の よ う な透明で 平滑性の 高い樹脂で構成さ れ 、 ま た カ ー ド裏基材 4 3 は塩化 ビニル 、 ポ リ カ ー ポネ ー 卜 、 ポ リ エ チ レ ン テ レ フ タ レ ー 卜 の よ う な樹脂材料で構成さ れて い る 。
    [0087] こ の光記録部 4 5 を形成す る の に こ の発明 の ワ ー キ ン グマ ス ク 6 0が使用 さ れる 。
    [0088] 次 に R O M型光記録 カ ー ド の製造方法 に つ い て 説明 す る 。 ま ず 、 カ ー ド 表基材 4 2 に 金属 反 射 層 （ ア ル ミ ニ ウ ム 層
    [0089] 4 9 a ) で 情報パ タ ー ン を 作製 し 、 R O M型 光 記 録 カ ー ド
    [0090] 4 a を作製す る場合の作製方法を第 9 図 に 示す 。
    [0091] (1) ま ず 、 第 9 図 に 示す よ う に 、 厚 さ 0 . 4 0纖のポ リ カ ー ボネ ー 卜 の透明 な カ ー ド表基材 4 2 を用 意す る （ 第 9 図 （ a )
    [0092] ) o
    [0093] (2) 次 に 、 カ ー ド表基材 4 2 の外面 に 大 日 本イ ン キ 化学工業 株式会社製 ア ク リ ル一シ リ コ ン樹脂 1 1 6 1 を 、 ロ ー ル コ ー 卜 法に よ り 乾燥層厚が 5 Ai 程度 に なる よ う に塗布 し てハ ー ド コ ー ト層 ' 4 7を形成する （ 第 9図 （ b 〉 ) 。
    [0094] (3) 次に 、 カ ー ド表基材 4 2の内面に大 日 本イ ン キ化学工業 株式会社製ア ク リ ル一シ リ コ ン樹脂 1 1 6 1 を、 ロ ールコ ー 卜 法 に よ り 乾燥層厚が 5 0 0 0 A程度に なる よ う に塗布 し て ア ン カ 一層 4 8を形成する （ 第 9図 （ c ) ) 。
    [0095] (4) 次に 、 カ ー ド表基材 4 2の光記録部 4 5 に対応する部分 に 、 真 空 蒸着 に よ り 、 ア ル ミ ニ ウ ム 層 4 9 a を 、 真 空 度 2 X 1 0 "5Torr, 蒸着 レ ー 卜 2 0 A Zsec で 1 O O O A程度 の層厚に なる よ う に形成する （ 第 9図 （ cf ) ) 。
    [0096] (5) 次に 、 カ ー ド表基材 4 2の アルミ ニ ウム層 4 9 a上に シ プ レ イ 社製フ ォ ト レジス 卜 、 マイ ク ロ ポジ ッ 卜 （ 登録商標 ） S 1 4 0 0 - 1 7をス ピ ンナ 一 に て 3 0 00 rpin で 3 0秒間 塗布 を 行 い 、 乾 燥 層 厚 5 0 0 0 A 程 度 の 塗層 を 得 た 後 、 9 0で ， Ί 5分間プ レベ ー ク を行い 、 レ ジス 卜 層 5 1 を形成 する （ 第 9図 （ e ) > 。
    [0097] (6) 次 に 、 所望のデー タ ピ ッ ト パ タ ー ン （ R 0 M情報デー タ ） が形成 し て あ る ワ ー キ ングマ ス ク 6 0をカ ー ド表基材 4 2の レ ジス 卜層 5 1 に密着 し 、 髙圧水銀灯を用い 、 4 m J ZCTfで 露光 し 、 光記録パ タ ー ン層 5 1 bを形成する （ 第 9図 （ f ) )
    [0098] (7) 次 に 、 カ ー ド表基材 4 2の レジ ス 卜 層 5 1 を シプ レイ 社 製現像液 M F— 3 1 2 1 部を純水 1 部で希釈 し た現像液に て 3 0秒間現像 し 、 純水 に て 、 水洗を充分 に行い 、 乾燥さ せ る （ 第 9 図 （ g ) )
    [0099] (8) 次 に 、
    [0100] ( 容量部 ）
    [0101] 燐酸 1 6部
    [0102] 齚酸 2部
    [0103] 硝酸 1 部
    [0104] 純水 1 部
    [0105] を 、 混合攪拌 し た エ ッ チ ン グ溶液 を 用 い て 、 カ ー ド 表 基 材 4 2 の アル ミ ニ ウ ム層 4 9 aを光記録パ タ ー ン層 5 1 bをマ ス ク と し て の エ ッ チ ング溶液 に 5 0秒間浸漬 し 、 アル ミ ニ ゥ ム層 4 9 aのエ ッ チン グを行い 、 アル ミ ニ ウ ムパ タ ー ン 4 9 bを形成 し た 後 、 純水 に て 水洗い を行い 、 乾燥さ せ る ( 第 9 図 （ h ) ) 。
    [0106] (9) 次 に 、 カ ー ド表基材 4 2 の フ ォ ト レ ジ ス 卜 の剥離性 向上 た め に 1 0 0 mJZ で再露光 し 、 東京応化 工業株式会社製剥. 離液 Ί 0 ( 商品名 ） を 1 部用 意 し 純水 3部で希釈 し た 溶液 に カ ー ド 表 基 材 4 2 を 1 〜 2 秒 浸 瀆 し 、 光 記 録 パ タ ー ン 層 5 1 bを剥離 し 、 直 ち に 純水 に て 水洗い を充分行い 、 乾燥さ せ る （ 第 9 図 （ i ) ) 。
    [0107] (10)次 に 、 所望のデザイ ンを施 し た 、 厚 さ 0 . 3 5臓の塩化 ビ ニ ー ルシ ー 卜 の カ ー ド裏基材 4 3 に 、 予め ウ レ タ ン系 の熱 可 塑性接着剤 か ら な る 接着剤 層 5 2 を 内 面 側 に 乾 燥 層 厚 5 mに な る よ う に ロ ール コ ー 卜 法 に て 塗布 し 、 カ ー ド 表基材 4 2 と カ ー ド裏基材 4 3 の 内面周士 を重ね合わせ 、 9 0 °C 、 1 5 Kg Z で 1 0分間熟プ レスを行い接着する （ 第 9 図 （ j )
    [0108] ) o
    [0109] (11)次に、 通常の カ ー ド形状に カ ッ ティ ングを行う （ 第 9 図 ） ） 。
    [0110] (12)こう して光記録カ ー ド 4 1 aが完成する （ 第 9 図 （ ） )
    [0111] 産業上の利甩可能性
    [0112] この発明の R O M型光記録カ ー ド用マスク の作製方法にお いて 、 R O M型光記録カ ー ド と書込み可能型光記録カ ー ドの 制御 ピッ 卜 、 案内ガイ ド等のプ リ フ ォ ーマ ッ テ ィ ングパタ ー ン （ データの読出 し 、 書込み論理構造 ） 及びデー タ ピッ 卜 を 同一 とすれば、 書込み可能型光記録カ ー ド用書込み読取 り装 置を R O M型光記録カ ー ド用マザ一マスク 、 マスタ マスク 基 材、 マスタマスク 、 ワ ーキングマス ク及び R O M型光記録力 ー ドの検査器と し て利用 するこ と ができ、 マスクの作製工程 及びカ ー ドの作製工程における検査が、 専用検査器を必要と するこ とな し に容易に行う こ とができる 。 また、 書込み可能 型光記録カ ー ド用書込み読取り装置のシステム （ コ ン ビユ ー タ 及ぴ外部メ モ リ 一装置等と に よ り構成されたデー タ処理シ ステム ） を R O M情報デー タ の描画器 と し て利用する こ と及 ぴ、 書込み可能型光記録カ ー ド用書込み読取り装置のシステ ムを R O M型光記録カ ー ドの読取 り装置のシステム と し て利 用 する こ とができる 。 こ の よ う な こ と か らマ ス タ マ ス ク の製造 コ ス ト を安価 に す る こ と ができ 、 マザ一マ ス ク か ら ワ ー キ ングマ ス ク ま で のマ ス ク 作製工程が簡単 と な り 、 ひい て は R O M型光記録 カ ー ド の多品種小 口 ッ 卜 生産の要請 に も迅速 に 対応す る こ と が可能 と な り 、 ま た 、 R O M型光記録 カ ー ド の製造 コ ス 卜 を安価 に す る こ と がで き る 。
    [0113] こ の よ う に 、 こ の発明の R O M型光記録 カ ー ド用 マ ス ク の 作製方法 に お い て 、 R O M型光記録 カ ー ド と 書込み可 能型光 記録 カ ー ドの制御 ピ ッ 卜 、 案内 ガ イ ド等のプ リ フ ォ ー マ ツ テ イ ン グパタ ー ン （ デ ー タ の読出 し 、 書込みの論理構造 ） 及び デー タ ピ ッ 卜 が共通であるので 、 こ の R O M型光記録 カ ー ド 用 マ ス ク の作製方法 に おい て 作製さ れ た マ ス ク を使用 し て 作 製さ れた R O M型光記録 カ ー ド は 、 書込 み可 能型光記録 カ ー ド用 読取 り 書込み装置の シス テ ムで R O M情報デ ー タ の処理 を す る こ と がで き 、 R O M型光記録 カ ー ド用 マ ス ク を簡単か つ 安価 に 作製す る こ と がで き る 。 し かも カ ー ド仕様 に 基づい た R O M情報デ ー タ 毎 に プ リ フ ォ ーマ ッ テ ィ ン グパ タ ー ン及 びデー タ ピ ッ 卜 をハ ー ド マ ス ク ブラ ン ク ス に 描画する の で は な く 、 書込み可能型光記録 カ ー ド の制御 ピ ッ 卜 、 案内 ガ イ ド 等の プ リ フ ォ ー マ ッ テ ィ ン グ ピ ッ 卜 （ デ ー タ の 読出 し 、 書込 みの論理構造 ） を持 っ たマザ一マ ス ク を作製 し 、 マザ一マ ス ク か ら R O M情報デ ー タ の描画を行 う マス タ マ ス ク基材を カ ー ド仕様毎 に 用意 し 、 書込み可 能型光記録 カ ー ド用 読取 り 書 込み装置の シ ス テ ム で R O M情報デ ー タ の描画を行い 、 マ ザ — マス ク か ら マス タ マス ク まで のマス ク 作製を、 迅速に し か も、 安価に行う こ と ができる 。
    权利要求:
    Claims請 求 の 範 囲
    ( 1 ) 書込み可 能型光記録 カ ー ド と 周 じ プ リ フ ォ ー マ ッ テ ィ ン グパ タ ー ン と デー タ ピ ッ 卜 パ タ ー ン を持 っ た R 0 M型光記 録 カ ー ド用 の ワ ー キ ングマ ス ク の作製方法で あ っ て 、 前記プ リ フ ォ ーマ ッ テ ィ ングパ タ ー ンを持つマザ一マ ス ク 作製工程 と 、 前記プ リ フ ォ ー マ ッ テ ィ ングパ タ ー ン を 転写 す るマ ス タ マ ス ク 基材作製工程 と 、 前記マ ス タ マ ス ク 基材 に前記プ リ フ ォ ー マ ツ テ ィ ン グパ タ ー ン か ら制御信号を得て レ ー ザ照射 に よ り 前記デー タ ピ ッ 卜 パ タ ー ン を前記マ ス タ マ ス ク 基材 に穿 孔す るマ ス タ マ ス ク 作製工程 と 、 前記マ ス タ マ ス ク をプ リ ン 卜 し ワ ー キ ン グマ ス ク を作製する ワ ー キ ン グマス ク 作製工程 と を含む こ と を特徴 と す る書込み可能型光記録 カ ー ド と周 じ プ リ フ ォ ーマ ッ テ ィ ン グパ タ ー ン と デー タ ピ ッ ト パ タ ー ン を 持 っ た R O M 型光記録 カ ー ド用 の ワ ー キ ングマ ス ク の作製方 法
    ( 2 ) 書込み可能型光記録 カ ー ド と周 じプ リ フ ォ ー マ ッ テ ィ ン グパ タ ー ン を持 っ た R O M 型光記録 カ ー ド用 のマザ一マ ス ク の作製方法で あ っ て 、 ハ ー ドマ ス ク ブラ ン ク ス に レ ジ ス 卜 を コ ー テ ィ ング す る レ ジ ス 卜 コ ー テ ィ ン グ工程 と 、 次 に レ ジ ス 卜 に前記書込み可 能型光記録 カ ー ド と 同 じ 前記プ リ フ ォ 一 マ ツ テ ィ ン グパ タ ー ン の形状 に 従 っ て 前記 レ ジ ス 卜 を露光す る露光工程 と 、 次 に 前記 レ ジ ス 卜 を現像 す る現像工程 と 、 次 に 前記ハ ー ドマ ス ク ブ ラ ン ク ス を エ ッ チ ン グす る エ ッ チ ン グ 工程 と 、 次に前記ハー ドマスクプラ ンク スから前記 レジス 卜 を除去する リ ムーブ工程とを含むこ とを特徵 とする書込み可 能型光記録カ ー ド と周 じプ リ フ ォ ーマッ テ ィ ングパタ ー ンを 持っ た R O M型光記録カ ー ド用のマザ一マス ク の作製方法
    ( 3 ) 書込み可能型光記録カ ー ド と周 じプ リ フ ォ ーマ ッ テ ィ ングパタ ー ンとデータ ピ ッ 卜パタ ー ンを持っ た R 0 M型光記 録カ ー ド用のマスタ マス ク の作製方法であ っ て 、 基材上に金 属層が形成 してあるマスタマスク基材上に レジス 卜 をコ ーテ イ ングする レジス 卜 コ ーテ ィ ング工程と、 次に書込み可能型 光記録カ ー ド と周 じプ リ フ ォ ーマ ッ テ ィ ングパタ ーンを持つ た R O M型光記録カ ー ド用のマザ一マスクを前記 レジス 卜上 に重ねて露光する露光工程と前記 レジス 卜を現像する現像ェ 程と 、 次に前記マスタマスク基材上の前記金属層をエ ツ チン グするエッ チング工程と 、 次に前記マスタマスク基材か ら レ ジス 卜 を リ ムープする リ ムープ工程と 、 次に前記マスタ マス ク基材の前記金属層上に光記録層を形成する光記録層形成ェ 程と、 次に前記書込み可能型光記録カ ー ド と同 じプ リ フ ォ ー マ ツ テ ィ ングパタ ー ンに従っ て レーザ照射によ り前記光記録 層をデー タ ピッ 卜パタ ー ンに対応 して穿孔するデー タ ピッ 卜 パタ ー ン書込み工程と 、 次に前記マスタマスク基材を前記デ —タ ピッ 卜 パタ ー ンに対応して穿孔された前記光記録層をマ ス ク と して前記金属層をエッ チングするエッ チング工程 と、、 次に前記マス タ マス ク基材から前記光記録層を除去する除去 工程とを含むこ とを特徴 とする書込み可能型光記録力 一 ド と 同 じプ リ フ ォ ー マ ッ テ ィ ン グノ° タ ー ン と デー タ ピ ッ ト ノ タ ー ン を持 っ た R O M 型光記録 カ ー ド用 のマ ス タ マ ス ク の 作製方 法
    ( 4 ) 書込み可 能型光記録 カ ー ド と 周 じ プ リ フ ォ ー マ ッ テ ィ ン グパ タ ー ン と デ ー タ ピ ッ 卜 パ タ ー ン を持 っ た R 0 M型光記 録カ ー ド用 のマ ス タ マ ス ク の作製方法で あ っ て 、 基材上 に 低 融点金属層 が形成 し て あ るマ ス タ マ ス ク 基材上 に レ ジ ス 卜 を コ ー テ ィ ン グする レ ジ ス 卜 コ ー テ ィ ン グ工程 と 、 次 に書込み 可 能型光記録 カ ー ド と周 じ プ リ フ ォ ーマ ッ テ ィ ン グパ タ ー ン を持 っ た R O M型光記録 カ ー ド用 のマ ザ一マ ス ク を前記 レ ジ ス 卜 上 に 重ね て露光す る露光工程 と 前記 レ ジ ス 卜 を現像す る 現像工程 と 、 次 に 前記マ ス タ マ ス ク 基材上 の前記低融点金属 層をエ ッ チ ン グす る エ ッ チ ン グ工程 と 、 次 に 前記マ ス タ マ ス ク 基材か ら レ ジ ス 卜 を リ ム ー ブす る リ ム ー ブ工程 と 、 次 に 前 記書込み可能型光記録 カ ー ド と 周 じ プ リ フ ォ ー マ ッ テ ィ ン グ パ タ ー ン に 従 っ て レ ー ザ照射 に よ り 前記低融点金属層 を デ ー タ ピ ッ 卜 パ タ ー ン に対応 し て 穿孔 す るデ ー タ ピ ッ 卜 ノ タ ー ン 書込み工程 と を含む こ と を特徴 と す る書込み可能型光記録 力 ー ド と 同 じ プ リ フ ォ ー マ ッ テ ィ ン グパ タ ー ン と デ ー タ ピ ッ ト パ タ ー ン を持 っ た R O M型光記録 カ ー ド用 のマ ス タ マ ス ク の 作製方法
    ( 5 ) 書込 み可能型光記録 カ ー ド と 同 じ プ リ フ ォ ー マ ッ テ ィ ングパ タ ー ン と デ ー タ ピ ッ ト ノ° タ ー ン を持 っ た マ ス ク の検査 方法で あ っ て 、 前記プ リ フ ォ ー マ ッ テ ィ ン グパ タ ー ン か ら得 られる制御信号によ り書込み可能型光記録カ ー ドの書込み読 取り装置を制御して、 前記マスク の前記デー タ ピ ッ 卜 パタ ー ンを読み取り 、 デコ ー ドを行っ た R O M情報デー タ と カ ー ド 仕様に基づいた R O M情報デー タ をコ ン ピュ ー タ に よ り 比較 する こ とを特徴とするマスク の検査方法
    ( 6 ) 前記マスク は R O M型光記録カ ー ド用マザ一マスク 、 マス タマスク基材、 マスタマスク及びワ ーキングマスクであ る こ とを特徴とする請求範囲第 5項記載のマスク の検査方法
    ( 7 ) 書込み可能型光記録カ ー ド と同 じプ リ フ ォ ーマ ッ ティ ングパタ ー ンとデー タ ピッ 卜パタ ー ンを持っ た R O M型光記 録カ ー ドの検査方法であ っ て 、 前記プ リ フ ォ ーマ ッ ティ ング パタ ー ンから得られる制御信号に よ り書込み可能-型光記録力 ー ドの書込み読取り装置を制御 し て、 前記 R O M型光記録力 ー ドの前記デー タ ピッ トパタ ー ンを読み取り 、 デコ ー ドを行 つ た R O M情報デー タ と カ ー ド仕様に基づいた R O M情報デ ー タ をコ ンピュ ー タ に よ り比較する こ とを特徴 とする R O M 型光記録カー ドの検査方法
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    DE68919079D1|1994-12-01|
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    EP0409987B1|1994-10-26|
    引用文献:
    公开号 | 申请日 | 公开日 | 申请人 | 专利标题
    法律状态:
    1989-10-19| AK| Designated states|Kind code of ref document: A1 Designated state(s): US |
    1989-10-19| AL| Designated countries for regional patents|Kind code of ref document: A1 Designated state(s): AT BE CH DE FR GB IT NL SE |
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    1991-01-30| WWP| Wipo information: published in national office|Ref document number: 1989904616 Country of ref document: EP |
    1994-10-26| WWG| Wipo information: grant in national office|Ref document number: 1989904616 Country of ref document: EP |
    优先权:
    申请号 | 申请日 | 专利标题
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